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离子束溅射系统与离子铣类似,就是使用气体原子离子化之后对靶材表面进行轰击,是半导体工艺中PVD制备办法里面最重要的一种。主要用于制备光学薄膜与半导体薄膜等。当我们使用IBE功能的时候,只需要把离子枪装在样品的对面,直接轰击样品表面,以完成样品的清洁与刻蚀。当与电子束合在一起的时候称之为IBAD,即离子辅助镀膜,可以增加镀膜材料附着在样品表面的能量,可制备高品质高密度的薄膜。

 

小编產品的重要特色:

 

1、能能基性岩具备最高质和最高重新性的大的规模pet薄膜

2、借助正化合物源导致指明待溅射计划的瞄准正化合物束。考虑到计划建材是经过动量信息传递而不会电学或热的过程烧蚀的,所以咧丝毫建材都行以形成沉积在衬底上(不管是导电的,还有绝缘性的)

3、靶材夹持器被设计制作成更具多条面,容许确认滑动来沉淀的不同的梦想原材料

4、比如显卡配置铁离子束帮助溅射源,则保证 衬底材质与形成积累膜两者之间正在逐步换季,同时形成积累膜内刚度较小

5、设备掩模系统软件,将实目前溥膜上确立特有的基性岩图案设计

6、经由应用FBBEAR操控PCPC软件使的时候半自动化设备,完成了透彻操控和高稳定性和不靠谱性分析性。FBBEAR操控PCPC软件带来详尽的数据信息备案、透彻的因素更改,应用户实际操作单纯,实验报告重新性不靠谱

 

应用:

 

IBSD可生长期的pet薄膜材质包含:自旋阀/AMR/GMR材质、磁队道结、材质涉及铝层、高k材质、线条记住耐热合金、超导材质等。

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
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